G-43Y6型高精密单面光刻机

产品介绍：

设备概述:

本设备是我公司根据市场需求研发的产品，通常情况下基片尺寸为：Φ6"，对被光刻基片的外形、厚度要求较低，可对多种材料的基片进行光刻。它特别适用进行一次光刻的产品,可制作声表面器件、可控硅、小液晶显示器、传感器、二极管、园光栅、编码盘等。按用户要求可提供圆形承片台或方形承片台,不管哪一种承片台，都能实现“真空密着”曝光,加之光均匀性好，所以大大提高光刻质量。 <span style="font-family:;" "="">
主要由防震工作台、高均匀性6"蝇眼曝光头、气动系统、电气控制系统、真空管路系统、直联式真空泵及附件箱等组成。

  适用于<span style="font-size:16px;font-family:;" "="">Φ6"以下，厚度(包括非圆形基片
  2. 结构稳定

有真空掩膜版架、真空片吸盘。

本设备操作简单，调试、维护、修理等都非常简便

采用进口电磁阀、按钮、定时器；采用独特的气动系统、真空管路系统和精密的机械零件，使本机具有非常高的可靠性。

除标准承片台外，还可以为用户定制专用承片台，来解决非圆形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分离不开所引起的版片无法对准的问题<span style="font-size:12.0pt;font-family:;" "="">

主要技术参数：

1、操作方式：手动。

2、曝光模式：接触式曝光。

3、曝光面积曝光面积：150mm×150mm。

4、紫外光源：g线（436nm）和i线（365nm）

5、实现“真空密着”曝光，但基片厚度≤2mm。

6、分辨率：Φ100mm范围内≤2um

7、照明不均匀性： ±3%（ Φ100mm范围）；±5%（ Φ150mm范围）；

8、曝光光源：350W汞灯（进口）；

9、曝光强度：≤20mW/ cm2

10、光源平行性：≤3.5°；

11、样品尺寸：Φ150mm。