鑫南光小编为大家介绍四川精密光刻机产品介绍：

一、主要用途：

本设备用于中小规模集成电路、半导体元器件、声表面波器件研制和生产。找平机构稳定性高，找平力小。且应对特殊基片表现卓越，如易碎的砷化钾、磷化铟等基片，以及非圆形、小型基片时，可凭借找平力小的优势，能不损坏基片顺利曝光且满足曝光需求。

二、主要技术参数 ：

1.适用于对Φ4″以下只需一次曝光的各种基片进行曝光，基片厚度要求0～5mm。

2.光源采用200W直流汞灯，曝光头光束不均匀性≤±6%（Φ100mm范围以内）。

3.采用时间继电器（可调节）控制曝光头的快门。

4.具有两个真空密着承片台（一个在曝光时，另一个可进行上下片的操作），根据用户需求，我公司可制作圆形或方形真空密着承片台。

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